顯微共焦拉曼光譜儀作為一種高精度分析儀器，在材料科學、生物醫(yī)學、環(huán)境監(jiān)測等多個領域發(fā)揮著重要作用。為了確保其測量結果的準確性和可靠性，制定并執(zhí)行嚴格的檢定規(guī)程顯得尤為重要。本文將圍繞顯微共焦拉曼光譜儀的檢定規(guī)程進行詳細闡述，為相關操作人員提供指導。
一、檢定規(guī)程概述
顯微共焦拉曼光譜儀的檢定規(guī)程旨在通過一系列標準測試，評估儀器的光譜穩(wěn)定性、重復性、靈敏度、光譜分辨率等關鍵性能指標，確保儀器在使用過程中滿足預定要求。檢定過程應嚴格按照制造商提供的操作手冊及國家相關標準執(zhí)行。
二、光譜穩(wěn)定性與重復性檢定
1.重復性檢定
重復性檢定是考察儀器性能穩(wěn)定性的重要指標之一。具體操作為：
（1）光柵移動測試：每次檢測時，光柵從0波數(shù)移動至最大波數(shù)，再回到檢測位置（0波數(shù)）。使用表面拋光的單晶硅作為樣品，掃描范圍設定為100~4500 cm^-1，重復不少于30次。
（2）觀察結果：記錄每次掃描的硅一階峰位置，確保其重復性優(yōu)于預定標準（如±X cm^-1）。
2.穩(wěn)定性檢定
穩(wěn)定性檢定在光柵不動的條件下進行，具體步驟為：
固定掃描范圍：使用表面拋光的單晶硅，掃描范圍限定在100~1000 cm^-1，重復不少于30次。
觀測結果：觀測硅一階峰中心位置的穩(wěn)定性，確保其變化范圍在允許范圍內(nèi)（如≤±X cm^-1）。
三、儀器靈敏度檢定
1.一般性實驗條件
（1）檢測條件設置：激光輸出功率約為20mW，波長選擇514nm或532nm，狹縫寬度設為50微米，曝光時間60秒，累加次數(shù)5次（或曝光時間100秒，累加次數(shù)3次）。
（2）檢測對象：檢測硅三階峰，信噪比越高越好。
（3）光柵與顯微鏡頭：光柵刻線應大于等于1800刻線，binning=1，顯微鏡頭選用X50或X100。
2.高分辨或共焦實驗條件
（1）在高分辨或共焦實驗中，檢測條件需進一步優(yōu)化：
（2）狹縫寬度：減小至Renishaw儀器的≤20微米。
（3）其他條件：保持激光輸出功率、波長、曝光時間、累加次數(shù)等參數(shù)不變，光柵刻線仍應大于等于1800刻線。
四、光譜分辨率檢定
光譜分辨率是衡量儀器性能的另一重要指標。檢定方法為：
1.實驗條件：狹縫寬度小于30微米，曝光時間1秒，使用大于等于1800刻線的光柵，binning=1，顯微鏡頭為X50或X100。
2.檢測對象：使用氖燈585nm線進行半高寬測量，以評估光譜分辨率。
五、橫向與縱向空間分辨率檢定
1.橫向空間分辨率
（1）樣品與檢測：使用表面拋光的單晶硅，采用100×物鏡，垂直硅片斷裂邊做線Mapping，Mapping步長0.2μm。
（2）觀測結果：記錄硅520拉曼信號強度在掃描過程中的變化曲線，計算強度從最弱到較強變化經(jīng)過的空間距離的一半作為橫向空間分辨率。
2.縱向空間分辨率
（1）深度序列掃描：對硅片表面進行深度序列掃描，掃描范圍從表面以上10μm到表面以下10μm，步長為1μm。
（2）觀測結果：記錄硅520拉曼信號的強度變化，計算強度變化曲線的半高全寬（FWHM）作為縱向空間分辨率。
六、阻擋激光水平檢定
檢測不同波長（如514nm、532nm、633nm、785nm）激光對硅一階峰（520cm^-1）的影響，觀測激光線強度與硅一階峰強度的比值，確保激光阻擋水平滿足要求。
測試實例：（Sulfur:激發(fā)波長：532nm）
七、結論
顯微共焦拉曼光譜儀的檢定規(guī)程是確保儀器性能穩(wěn)定和測量結果準確的重要保障。通過嚴格的重復性、穩(wěn)定性、靈敏度、光譜分辨率及空間分辨率等檢定項目，可以全面評估儀器的性能指標，為科研和工業(yè)生產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)支持。操作人員應嚴格按照規(guī)程執(zhí)行檢定工作，確保儀器的正常運行和數(shù)據(jù)的準確性。
以下分享兩張顯微共焦拉曼光譜儀的展示圖：
